簡易檢索 / 檢索結果

  • 檢索結果:共1筆資料 檢索策略: "Lithography".ekeyword (精準) and ckeyword.raw="週期性結構蝕刻"


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    新式全曝光系統涉及應用
    • 光電工程研究所 /104/ 碩士
    • 研究生: 吳偉泓 指導教授: 李三良
    • 傳統的全像術曝光系統因其反射鏡限制了其週期大小與曝光面積,為了克服此問題,本論文採用兩條光纖取代原有的反射鏡及擴束器,並利用光纖可彎曲的特性,改良全像干涉曝光系統的光路,使其曝光面積較不受干涉圖案週…
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